【製品紹介】

 

  • 研究開発、実験用の汎用設備です
  • カセット手動投入によるバッチタイプ装置です
  • 設置場所、用途、諸々条件に応じた設計・製作を致します
  • 特殊仕様カセットの提供も可能です

基本仕様

装置構成例1:手動テクスチャー(単結晶)
装置寸法 2000(W)×1000(D)×2300(H)
処理能力  
槽構成 Pre Clean (SC1)
TEXTURE-1 (Alkali)
HF
Rinse
Dry (HOT Blow)
オプション 薬液供給システム、FA通信 等
安全規格 CE-Mark、UL規格に対応可能
装置構成例2:手動テクスチャー(多結晶)
装置寸法 2000(W)×1000(D)×2300(H)
処理能力  
槽構成 Pre Clean (SC1)
TEXTURE-1 (Acid)
HF/Hcl
Rinse
Dry (HOT Blow)
オプション 薬液供給システム、FA通信 等
安全規格 CE-Mark、UL規格に対応可能

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WP事業部

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