石英ガラス容器内で、純水をクリーンな状態で加熱する技術を確立しており、純水加熱前の純度や比抵抗値を維持した温純水を供給することが可能です。本技術は、純水加温装置とし、半導体製造プロセス／太陽電池製造プロセスにおけるシリコン基板、液晶製造プロセスにおけるガラス基板等を温純水洗浄する目的で使われています。