半導体製造装置等、CRで使われる設備にはパーティクル（微小異物）が性能に大きく左右されるため、部品レベルでの洗浄が必要となります。弊社は微細パーティクル除去や脱脂洗浄などの長年半導体洗浄で築いたウェット洗浄技術ノウハウを持っています。