イオンビームミリング装置は、イオン源内に生成したプラズマから引き出したイオンを加速し加工材料に衝突させ物理的に微細加工をするイオンビームエッチング装置です。

　独自のバケット型イオン源により、均一で平行なビームで加工ができます。小型から大型まで取りそろえ、オーダーメイドにも対応いたします。

　MEMS、センサー、MRAM、パワーデバイス、高周波デバイス、光デバイスなど、さまざまなアプリケーションに適用されており、IoTの中核となるデバイス製造を支えます。

（1）イオンの速度と衝突現象

　イオンを加速して物質に衝突させると、その速度の大きさによって下図のように堆積、加工、注入などの現象が発生します。

　これらの現象を利用して電子デバイスを製作することができます。

（2）イオン源のプラズマ生成

　フィラメントに電流を流して熱電子を発生させ、イオン源内部にＡｒガスを流してアーク放電を発生させると、Ａｒ分子は熱電子と

激しく衝突して電離します。

　この様にＡｒ+イオン、電子（-）、電離していないＡｒ分子が混在する全体として電気的に中性なＡｒプラズマを生成します。

（3）イオン源からのビーム引出し

　加速電極に電圧をかけることにより、電気的に中性なプラズマにプラス電位を持たせると、電極に開いている穴から漏れ出たイオンが

電位０Vの基板ホルダ方向に向かい飛んでいきます。この飛んできたイオンが加工対象である基板にぶつかることで加工を行ないます。

　イオンを物理的にぶつけて加工を行なうので、ほとんどの物質を加工できます。そのため、多層膜や化学反応で削りにくい物質などの

加工に適しています。また、通常不活性ガスであるArガスのみを使用するので排ガス処理装置が不要です。

研究開発および少量生産に適した小型装置

• エッチング高レートと低レート制御が可能
• 均一平行ビームによる高均一加工
• 難エッチング材の微細加工可能
• 立体形状のワークも加工可能
• 自転＋傾斜する基板ホルダ
• 豊富なチャック方式を選択可能
• コンパクトなフットプリント
• ロードロック（オプション）
• 終点検知システム（ロードロック付タイプにオプション適用）

• エレクトロニクスデバイス、MEMS製造用、微細加工研究、開発、試作、小量産用途など
• 小型立体個体物へのイオン照射など

　　 ＣＩＭシリーズ

  　　　 コンパクトをさらに追求したタイプ

カセットtoカセットで処理する量産装置

• MEMSの電極微細加工、高周波フィルターや化合物半導体の配線・電極加工、磁気ヘッド・磁気センサーなどの微細パターン／

　　形状加工など

　　 処理室2室タイプ

大型基板および多数枚処理に適した装置

• 磁気ヘッド用微細加工、プリンターヘッドなどの微細加工など

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当社が保有するイオンビームミリング装置の各種デモ機で、お客さまの用途に合わせたサンプル処理を初回無償で提供します。

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大変ご不便をおかけいたしますが、何卒ご理解いただきますようお願い申し上げます。

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